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光化学反应仪CY品牌系列主要用于研究气相或液相介质、固定或流动体系、紫外光或模拟可见光照、以及反应容器是否负载光催化剂等条件下的光化学反应。具有提供分析反应产物和自由基的样品,测定反应动力学常数,测定产率等功能,广泛应用化学合成、环境保护以及生命科学等研究领域。
目前,各种干扰在各类工业现场中均存在,所以仪表及控制系统的性直接影响到现代化工业生产装置安全、稳定运行,系统的抗干扰能力是关系到整个系统运行的关键。随着DCS、现场总线技术的应用,被控对象和被测信号往往分布在各个不同的地方,并且他们与控制站之间也有相当长的距离,因此,信号线和控制线均可能是长线。其次,现场往往有许多强电设备,它们的启动和工作将对测控系统产生强烈的影响。同时来自空间的辐射干扰、系统外引线干扰等问题尤为。因此,除有用信号外,由于各种原因必然会有一些与被测信号无关的电流或电压存在,这种无关的电流或电压通称“干扰(噪声)”。在测量过程中,这些干扰若不能很好地处理,那它将歪曲测量结果,严重时甚至使仪表或计算机不能工作。大量实践说明,抗干扰性能是各种电子测量装置的一个很重要的问题,尤其是DCS、现场总线技术的广泛应用和发展,有效地排除和抑制各种干扰,已成为必需探讨和解决的迫切问题,因为干扰不仅能造成逻辑混乱,使系统测量和控制失灵,以致降低产品的质量,甚至使生产设备损坏,造成事故。因此,抗干扰技术在仪表测控系统的设计、制造、安装和日常维修中都必需给予足够的重视。
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